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光子學(xué)測試解決方案
晶圓檢測系統(tǒng)
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產(chǎn)品名稱:
晶圓檢測系統(tǒng)
產(chǎn)品型號(hào):
7940
產(chǎn)品展商:
Chroma
產(chǎn)品文檔:
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簡單介紹
可同時(shí)檢測正反兩面晶圓 *大可檢測6吋擴(kuò)膜晶圓 (檢測區(qū)域達(dá)8吋范圍) 可因應(yīng)不同產(chǎn)業(yè)的晶粒更換或新增檢測項(xiàng)目 上片后晶圓自動(dòng)對(duì)位機(jī)制 自動(dòng)尋邊功能可適用于不同形狀之晶圓 瑕疵規(guī)格編輯器可讓使用者自行編輯檢測規(guī)格 瑕疵檢出率高達(dá)98% 可結(jié)合上游測試機(jī)晶粒資料,合并后上傳至下一道制程設(shè)備 提供檢測報(bào)表編輯器,使用者可自行選擇適用資料并進(jìn)行分析
晶圓檢測系統(tǒng)
的詳細(xì)介紹
產(chǎn)品特色
可同時(shí)檢測正反兩面晶圓
*大可檢測6吋擴(kuò)膜晶圓 (檢測區(qū)域達(dá)8吋范圍)
可因應(yīng)不同產(chǎn)業(yè)的晶粒更換或新增檢測項(xiàng)目
上片后晶圓自動(dòng)對(duì)位機(jī)制
自動(dòng)尋邊功能可適用于不同形狀之晶圓
瑕疵規(guī)格編輯器可讓使用者自行編輯檢測規(guī)格
瑕疵檢出率高達(dá)98%
可結(jié)合上游測試機(jī)晶粒資料,合并后上傳至下一道制程設(shè)備
提供檢測報(bào)表編輯器,使用者可自行選擇適用資料并進(jìn)行分析
Chroma 7940晶圓檢測系統(tǒng)為自動(dòng)化切割后晶粒檢測設(shè)備,使用先進(jìn)的打光技術(shù),可以清楚的辨識(shí)晶粒的外觀瑕疵。結(jié)合不同的光源角度、亮度及取像模式,使得7940可以適用于LED、雷射二極體及光敏二極體等產(chǎn)業(yè)。
由于使用高速相機(jī)以及自行開發(fā)之檢測演算法,7940可以在3分鐘內(nèi)檢測完6吋LED晶圓,換算為單顆處理時(shí)間為15msec。7940同時(shí)也提供了自動(dòng)對(duì)焦與翹曲補(bǔ)償功能,以克服晶圓薄膜的翹曲與載盤的水平問題。7940可配置2種不同倍率,使用者可依晶粒或瑕疵尺寸選擇檢測倍率。系統(tǒng)搭配的*小解析度為0.5um,一般來說,可以檢測1.5um左右的瑕疵尺寸。
系統(tǒng)功能
在擴(kuò)膜之后,晶?;蚓A可能會(huì)產(chǎn)生不規(guī)則的排列,7940也提供了搜尋及排列功能以轉(zhuǎn)正晶圓。此外,7940擁有人性化的使用介面可降低學(xué)習(xí)曲線,所有的必要資訊,如晶圓分布,瑕疵區(qū)域,檢測參數(shù)及結(jié)果,均可清楚地透過使用者介面(UI)呈現(xiàn)。
瑕疵資料分析
所有的檢測結(jié)果均會(huì)被記錄下來,而不僅只是良品/**品的結(jié)果。這有助于找出一組*佳參數(shù),達(dá)到漏判與誤判的平衡點(diǎn)。提供瑕疵原始資料亦有助于分析瑕疵產(chǎn)生之趨
勢,并回饋給制程人員進(jìn)行改善。
應(yīng)用范圍
使用在垂直結(jié)構(gòu)LED制程&垂直腔面發(fā)射激光器VCSEL制程
發(fā)光二極體正面檢查項(xiàng)目
電極缺陷 Pad Defect
電極殘留 Pad Residue
發(fā)光區(qū)剝落 ITO Peeling
斷線 Finger Broken
切割道異常 Mesa Abnormality
磊晶缺陷 Epi Defect
崩缺 Chipping
晶粒殘留 Chip Residue
▲ 正面同軸光影像
▲ 正面環(huán)形光影像
發(fā)光二極體背面檢查項(xiàng)目
切割** Dicing Abnormality
電極凸點(diǎn) Pad Bump
晶邊崩缺 Chipping
失金 Metal Lack
▲ 背面同軸光影像
▲ 背面環(huán)形光影像
VCSEL正面檢查項(xiàng)目
焊墊缺陷 Pad Defect
焊墊刮傷 Pad Scratch
發(fā)光區(qū)缺陷 Emitting Area Defect
剝落 Peeling
邊線異常 Mesa Abnormality
磊晶缺陷 Epi Defect
崩邊 Chipping
晶粒殘留 Chip Residue
▲ 正面同軸光影像
▲ 正面環(huán)形光影像
VCSEL背面檢查項(xiàng)目
切割異常 Dicing Abnormality
焊墊突起 Pad Bump
崩邊 Chipping
剝落 Metal Lack
▲ 背面環(huán)形光影像
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